光催化氧化設(shè)備技術(shù)是在光化學(xué)氧化技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的。涂裝設(shè)備廠(chǎng)家的光化學(xué)氧化技術(shù)是在可見(jiàn)光或紫外光作用下使污染物氧化降解的反應(yīng)過(guò)程。但由于反應(yīng)條件所限，光化學(xué)氧化降解往往不夠，易產(chǎn)生多種芳香族中間體，成為光化學(xué)氧化需要克服的問(wèn)題，而通過(guò)和光催化氧化劑的結(jié)合，可以大大提高光化學(xué)氧的效率。

光氧催化設(shè)備根據(jù)光催化氧化劑使用的不同，可以分為均相光催化氧化和非均相光催化氧化。

均相光催化降解是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質(zhì)，通過(guò)光助-芬頓反應(yīng)產(chǎn)生羥基自由基使污染物得到降解。紫外光線(xiàn)可以提高氧化反應(yīng)的效果，是一種很好的催化劑。紫外/臭氧(UV/03)組合是通過(guò)加速臭氧解分速率，提高羥基自由基的生成速度，并促使污染物形成大量分子，來(lái)提高難降解污染物的處理效率。